简介薄膜测量系统TF-168是TF-166的改进系统，从顶部更容易进行光束对准。它具有非接触式光学测量功能，可测量各种多层光学薄膜和涂层的厚度，折射率和吸收率。应用光学组件上的介电涂层，涂覆的滤光片，晶圆上的半导体制造，液晶器件，多层聚合物膜。薄膜层的示例：SiO2，CaF2，MgF2，光致抗蚀剂，多晶硅，非晶硅，SiNx，TiO2，溶胶凝胶，聚酰亚胺，聚合物膜。基材材料示例：硅，锗，GaAs，ZnS，ZnSe，丙烯酸，蓝宝石，玻璃，聚碳酸酯，聚合物，石英。
| 测量范围 | 20 nm至50 μm（仅厚度），100 nm至10 μm（厚度w / n＆k） |
| 可测层 | up to 4层 |
| 现货尺寸 | 可调0.8毫米至4毫米 |
| 样本量 | 从1毫米起 |
| 厚度精度 | ±1 nm或±0.5％中较大者 |
| 精确 | 0.2纳米 |
| 重复性 | 0.1纳米 |
| 平台尺寸 | 7英寸x 7英寸或178毫米x 178毫米 |
| 系统尺寸 | 宽度8英寸，深度9 1/2英寸，高度14英寸 |
薄膜厚度测量系统
单独使用包含的光源或光谱仪 主机包括一个钨卤素灯光源（360-2500 nm）和一个基于PC的USB微型光谱仪（350-1000 nm），每个均具有SMA 905连接器。 | |
| 通过将薄膜测量光纤与内部光源和光谱仪断开连接，可以将单独的光纤连接到光源和光谱仪，以促进其他照明或光谱测量应用。 | |
测量功能
基材折射率和吸收率评估
膜厚测量，均值和标准差
膜材料的折射率和吸收率评估
保存测量的光谱相关反射率数据
加载先前保存的反射率数据
测量结果统计
用户友好的光标控制显示测量结果
灵活选择计算波长范围
灵活选择厚度范围以大程度地减少计算时间
从随附的数据库中方便地选择薄膜和基材材料
用户定义的材料选择和导入。
