shlf1314Zeta-300 光学轮廓仪基于 Zeta-20 的成熟性能，包括集成式防震以及支持更大的样品尺寸，以满足您的研发和生产要求。

shlf1314Zeta™-300 可提供 3D 量测和成像功能，与集成式防震台和灵活的配置相结合，可以处理更大的样品。该系统采用 ZDot™ 技术，可同时收集高分辨率 3D 形貌信息和样品表面真彩色图像。Zeta-300 支持研发和生产环境，具有多模光学组件、易于使用的软件和低拥有成本。

产品描述

Zeta-300光学轮廓仪是一款非接触式3D表面形貌测量系统。Zeta-300以Zeta-20 3D轮廓仪的功能为基础，具有额外的防震选项和灵活的配置，可处理更大的样品。该3D光学量测系统由已获得专利的ZDot技术及多模式光学组件提供支持，可支持各种样品测量：透明和不透明、低反射率和高反射率、光滑表面和粗糙表面，以及从纳米到厘米范围的台阶高度。

Zeta-300台式光学轮廓仪将六种不同的光学量测技术集成到一个可灵活配置且易于使用的系统中。ZDot测量模式同时收集高分辨率的3D扫描信息和样品表面真彩色图像。其他3D测量技术包括白光干涉测量法、诺马斯基光干涉对比显微法和剪切干涉测量法，膜厚测量包含使用ZDot模式测量和光谱反射的测量方法。Zeta-300也是一款高端显微镜，可用于抽样检查或缺陷自动检测。Zeta-300 3D轮廓仪通过提供全面的台阶高度、粗糙度及薄膜厚度测量以及缺陷检测功能，来支持研发和生产环境。

主要功能

● 配合ZDot及多模式光学组件，该光学轮廓仪可以容易地实现各种各样的应用

● 是可用于抽样检查和缺陷检测的高质量显微镜

● ZDot：同时采集高分辨率的3D扫描扫描信息和样品表面真彩色图像

● ZXI：采用z方向高分辨率的广域测量白光干涉仪

● ZIC：图像对比度增强，可实现亚纳米级粗糙度表面的定量分析

● ZSI：z方向高分辨率图像的剪切干涉测量法

● ZFT：通过集成式宽频反射测量法测量薄膜厚度和反射率

● AOI：自动光学检测，可量化样品缺陷

● 生产能力：具有多点量测和图形识别功能的全自动测量

主要应用

● 台阶高度：从纳米级到毫米级的3D台阶高度● 纹理：从光滑表面到粗糙表面的粗糙度和波纹度测试● 翘曲：2D或3D翘曲● 应力：2D或3D薄膜应力● 薄膜厚度：30nm至100μm不等的透明薄膜厚度● 缺陷检测：捕获大于1μm的缺陷● 缺陷复检：KLARF 文件可用于寻找缺陷，以确定划痕缺陷位置，测量缺陷3D表面形貌

适用行业

● LED：发光二极管和PSS（图案化蓝宝石基板）● 半导体和化合物半导体● 半导体 WLCSP（晶圆级芯片级封装）● 半导体FOWLP（扇出晶圆级封装）● PCB（印刷电路板）和柔性PCB● MEMS（微机电系统）● 医疗器械和微流体器件● 数据存储● 大学，实验室和研究所● 还有更多：请联系我们以满足您的要求

选配件

ZFT: Zeta 薄膜厚度

Zeta-300 可提供集成式宽频光谱仪，用于 30nm 至 100µm 的透明薄膜厚度测量。它能够测量单层或多层堆叠薄膜的厚度，用户从材料库中选择折射率值。可绘制样品上的薄膜厚度分布图，以确定样品的均匀性。

ZFT 可用于一些反射率最低的表面，例如反射率不足 0.1% 的样品。很多薄膜厚度测量机台难以从这些类型的表面上获得信号，因为它们依赖于镜面反射光来计算相位变化或其他参数。宽频白光和垂直入射光源可支持该机台用于各种低反射率光学透明薄膜。

ZXI：Zeta干涉测量技术

Zeta-300 与压电载台及干涉物镜结合使用，可支持相位扫描干涉测量法 (PSI) 和垂直扫描干涉测量法 (VSI)。PSI 支持快速测量几埃到数百纳米的台阶高度。VSI支持从数百纳米到数百微米的台阶高度测量。无论物镜数值孔径的大小，两者的分辨率均好于纳米级。

ZIC：Zeta 干涉对比

Zeta-300 采用诺马斯基光差分干涉对比显微法来提供精细表面细节的增强影像。诺马斯基光差分干涉对比显微法采用偏振和棱镜来更改相位，从而增强样品表面坡度的变化。这能让超光滑表面上的缺陷可视化，例如单层污染物。ZIC 扫描模式可通过将坡度变化与其他技术测量的粗糙度相关联，将这些图像转化为亚纳米级粗糙度的定量测量。

ZSI：Zeta 剪切干涉测量法

Zeta-300 剪切干涉测量技术 (ZSI) 通过在相位中增加变化来强化 ZIC 测量。采集具有不同相位的多幅影像，然后通过先进的算法加以处理，以生成具有埃级分辨率的表面形貌的定量测量。该技术无需干涉物镜和z方向载物台扫描，即可完成从几埃到80nm的高分辨率测量。

物镜

提供多种物镜，包括 1.25 倍至 150 倍的常规物镜、长工作距离物镜、超长工作距离物镜、折射率校正物镜、透射式物镜、液体浸没式物镜和垂直扫描干涉物镜。

耦合器

Zeta-300 可配置四种不同的光耦合器，以改变光学放大倍率。该系统可配置 1 倍耦合器，以保持初始放大倍率，或配置 0.35 倍、0.5 倍或 0.63 倍耦合器，以提高放大倍率。

物镜转台

Zeta-300 可配置 5 位或 6 位手动转台，以及一个用于自动物镜识别的物镜传感器。该系统还可以配置一个可实现全自动操作的 6 位自动转台。

样品光照

Zeta-300 采用双高亮白色 LED 作为标准光照。通过样品载台的背光也可用于增强具有挑战性的透明样品的光线，例如图形化的蓝宝石衬底 (PSS)。Zeta-300 还支持使用侧光源的暗场照明。

样品台

Zeta-300 可以配置各种样品台以提高系统性能。在 ZDot或 ZXI 测量模式下测量纳米级台阶高度，可以添加压电 Z 轴平台提高 z 分辨率。Z 样品台可以安装在转环上，使测量头能够围绕样品旋转，从而改变表面入射角。可选的 280 毫米 Z 测量塔可以容纳大型零件，例如平板电脑、手机和大型机器组件。XY 样品台可配置手动 300 毫米行程或电动 150 或 200 毫米行程。可以将手动旋转样品台添加到 XY 样品台上。可添加手动调节的倾斜样品台，从而调平样品载台，以便进行干涉测量。

样品载台

Zeta-300 可提供支持各种应用要求的载台。背光载台可用于透明衬底，以支持图形化的蓝宝石衬底所需的透射照明。支持包括 300 毫米的多种晶圆尺寸，并提供多种样品载台。如果我们没有您需要的载台，请联系我们提出您的需求。

防震台

Zeta-300 具有内置于系统底座的被动防震台。对于需要更高防震效果的应用，可提供主动防震台。Zeta-300 有一个标准的隔音罩，可将系统与环境噪音隔离开来，并使用户免受机械手臂移动的噪音。

台阶高度和薄膜厚度标准片

Zeta-300 使用由 VLSI 提供的可追踪台阶高度的 NIST 薄膜和厚膜标准片。这些标准片在蚀刻的石英台阶上覆盖了铬涂层。可提供8纳米至250微米的台阶高度。

现有经过认证的多台阶标准片具有8、25、50 和100µm的名义台阶高度。该标准片具有用于XY校准的各种间距的图形。适用于ZFT的经过认证的厚度标准片由一个可供参考的硅表面和名义厚度为270nm的二氧化硅薄膜组成。还有可供参考的粗糙度和镜面样品等。

多点测量功能

多点测量功能利用电动XY样品台能让用户对样品上的测量位置进行设计。该系统会自动测量每个点位，并在用户定义的文件夹中保存结果。还会生成一份统计数据输出报告来概括结果。

高级序列软件包括图形识别可自动对齐样品。可全自动测量，免受操作员失误的影响。在样品台上嵌入标准片后，可启用自动校准。

拼接软件

自动图像拼接软件使用电动 XY 样品台来组合相邻扫描，可生成比单一视场更大的拼接数据集。该系统可自动测量每个点位、对齐图像，并将它们组合成一个数据集。可以像分析任何其他结果文件一样分析结果。

Apex分析软件

Apex分析软件通过一套扩展的找平、过滤、台阶高度、粗糙度和表面形貌分析技术增强了该工具的标准数据分析能力。Apex支持ISO粗糙度计算方法以及当地标准，例如ASME。Apex还可以作为报告编写平台，能够添加文本、说明和通过/失败标准。Apex 支持 11 种语言。

离线分析软件

Zeta-300 离线软件具有与该机台相同的数据分析和程式创建功能。这使用户能够创建程式和分析数据，而不占用机时。

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