HITACHI FT160 XRF萤光镀层厚度测量仪
shlf1314 快速、准确地分析纳米级镀层
FT160 台式 XRF 分析仪旨在测量当今 PCB、半导体和微连接器上的微小部件。
准确、快速地测量微小部件的能力有助于提高生产率并避免代价高昂的返工或元件报废。
FT160 的多毛细管光学元件可以测量小于 50 μm 的特征上的纳米级镀层，先进的检测
shlf1314器技术可为您提供高精度，同时保持较短的测量时间。其他功能，例如大样品台、宽样
shlf1314品舱门、高清样品摄像头和坚固的观察窗，可以轻松装载不同尺寸的物品并在大型基板
shlf1314上找到感兴趣的区域。该分析仪易于使用，与您的 QA / QC 流程无缝集成，在问题危机
发生前提醒您。
HITACHI FT160 XRF萤光镀层厚度测量仪产品亮点
shlf1314FT160 的光学和检测器技术专为微光斑和超薄镀层分析而设计，针对细小的特征进行了优化。
用于从安全距离查看分析的大观察窗
测量方法符合 ISO 3497、ASTM B568 和 DIN 50987 标准
IPC-4552B、IPC-4553A、IPC-4554 和 IPC-4556 一致性镀层检测
shlf1314用于快速样品设置的自动特征定位
shlf1314为您的应用优化的分析仪配置选择
在小于 50 μm 的特征上测量纳米级镀层
将传统仪器的分析通量提高一倍
可容纳各种形状的大型样品
shlf1314专为长期生产使用的耐用设计
HITACHI FT160 XRF萤光镀层厚度测量仪产品对比
FT160 | FT160L | FT160S | |
元素范围 | Al – U | Al – U | Al – U |
探测器 | 硅漂移探测器 (SDD) | 硅漂移探测器 (SDD) | shlf1314硅漂移探测器 (SDD) |
X射线管阳极 | W 或 Mo | W 或 Mo | W 或 Mo |
光圈 | 多毛细管聚焦 | 多毛细管聚焦 | 多毛细管聚焦 |
孔径大小 | 30 μm @ 90% 强度（Mo tube） 35 μm @ 90% 强度（W tube） | shlf131430 μm @ 90% 强度（Mo tube） shlf131435 μm @ 90% 强度（W tube） | shlf131430 μm @ 90% 强度（Mo tube） 35 μm @ 90% 强度（W tube） |
XY轴样品台行程 | 400 x 300 mm | 300 x 300 mm | shlf1314300 x 260 mm |
样品尺寸上限 | shlf1314400 x 300 x 100 mm | shlf1314600 x 600 x 20 mm | 300 x 245 x 80 mm |
样品聚焦 | 聚焦激光和自动聚焦 | 聚焦激光和自动聚焦 | 聚焦激光和自动聚焦 |
测试点识别 | ? | ? | ? |
软件 | shlf1314XRF Controller | shlf1314XRF Controller | shlf1314XRF Controller |
